| 참조번호 | 품목분류4과-339 |
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| 시행일자 | 2026-01-26 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8543.70-9090 |
| 품명 | BATCH PLASMA CLEANING SYSTEM; MJ24-007; IN; |
| 물품설명 |
ㅇ 반도체 노광공정에 사용되는 EUV 펠리클*의 제조 공정에 사용되는 장비로 플라즈마를 생성하여 EUV 멤브레인(막) 지지체의 표면을 세정하는 기계
* 포토마스크를 미세한 오염 입자로부터 보호하는 얇은 보호막으로 EUV광을 투과시키는 멤브레인, 멤브레인을 지지하는 지지체 보더, 프레임으로 구성 ㅇ 진공펌프를 이용하여 챔버내에 존재하는 Air 등 가스를 제거한 후 O2 가스를 주입하고, RF 에너지를 인가하여 이온화된 활성 산소 라디칼(플라즈마)를 생성하여, 이 활성종들이 EUV 펠리클 지지체의 표면에 있는 유기 오염물 등을 분해 ㅇ 주요 구성요소별 기능 - RF 플라즈마 생성기 : 반도체나 디스플레이 등 공정 내 챔버내의 가스를 이온화하여 고밀도 플라즈마를 유도하는 핵심 장치 - 가스 생성기 : O2 등 산업용 가스를 공급하는 장치 - 챔버 : “벽으로 둘러싸인 공간”을 뜻하는 것으로, O2 플라즈마 처리를 하는 공간 - 진공펌프: 챔버 내부의 기체를 외부로 빼내어 낮은 압력(진공) 상태를 만드는 장치로, 공정 중 진공 시스템 유지 필요시 사용됨. - 퍼지라인(가스 제거용): 공정 후 배관이나 챔버 내부에 잔류한 가스를 제거해주는 배관 |
| 결정사유 |
ㅇ 본 물품은 EUV 펠리클 제조공정에 사용되는 장비로 관세율표 제8486.40호에 해당하는 마스크 제조용 장비로 보기 어려움
ㅇ 관세율표 제8543호에 “기타의 전기기기(이 류의 다른 곳에 열거되지 아니하거나 포함되지 아니한 것으로서 고유의 기능을 가진 것에 한한다)”가 분류되고 - 같은 호 해설서에서 “이 호에는 이 류의 다른 호에 해당되지 않고 품목분류표의 다른 류의 호에 특히 분류되지 않으며 또한 제16부 또는 이 류의 법정 주를 적용하여도 제외되지 아니하는 모든 전기기기가 포함된다.”고 설명하면서 - 이 호에 분류되는 것으로 “치료목적이 아닌 전기식 오존발생 및 확산기기(예: 공업용, 구내의 오존화용)” 등을 예시하고 있음. ㅇ 본 물품은 O2 가스에 RF 에너지를 인가하여 플라즈마를 발생시키고 이 플라즈마가 EUV 펠리클 지지체의 표면에 있는 유기 오염물 등을 분해하여 오염을 제거하는 기기로 “기타의 전기기기”에 해당하므로 관세율표 해석에 관한 통칙 제1호 및 제6호에 따라 제8543.70-9090호에 분류함. |
| 이미지건수 | 2 |
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