| 참조번호 | 품목분류4과-5259 |
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| 시행일자 | 2025-11-24 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8486.90-2040 |
| 품명 | Ta Target with Backing Plate; Ta Encorell Target; Ta Encorell; 4N5 (99.995%) |
| 물품설명 |
- 탄탈륨(99.995%) 재질의 타겟(Target)과 구리 합금 재질의 백킹플레이트 (Backing Plate)가 일체로 결합된 원판형의 물품으로, 반도체 제조용 스퍼터링 장비에 장착되어 웨이퍼에 타겟 성분인 탄탈륨 증착에 사용
- 구성성분 · 타겟(Target) : Ta 99.995% · 백킹플레이트(Backing Plate) : Cu Alloy - 기능 · 타겟(Target) : 웨이퍼 위에 탄탈륨을 증착되게 하는 역할 · 백킹플레이트(Backing Plate) : Chamber 상부와 Target의 정밀결합, 증착 공정 시 Target 냉각 기능 수행 크기 : D523.8.mm x T25.4mm |
| 결정사유 |
- 관세율표 제16부 주 제2호 나목에서 “특정한 기계나 동일한 호로 분류되는 여러 종류의 기계에 전용되거나 주로 사용되는 부분품은 그 기계가 속하는 호에 분류한다.”라고 규정하고 있음
- 관세율표 제8486호에는 “반도체디바이스ㆍ전자집적회로ㆍ평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, …, 그 부분품과 부속품”이 분류되고, 소호제8486.90호에는 “부분품과 부속품”이 세분류되며, - 같은 호 HS해설서 “(B) 반도체디바이스나 전자집적회로 제조용 기계와 기기”에서 “(b) 화학기상증착(CVD : Chemical Vapour Deposition) 장비”와 “(c) 물리 기상증착(PVD : Physical Vapour Deposition) 장비 : 어떠한 고체를 기화시킴 으로써 얻는 다양한 형태의 막을 증착시킨다. 예를 들면, … (2) 증착 (sputtering) 장비 : 이온이 있는 원료물질을 포격함으로써 막을 생성한다.”를 이 호의 기계로 예시하고 있음 - 본 물품은 제8486호에 분류되는 반도체 제조용 증착장비인 스퍼터링 장비에 장착되어 웨이퍼에 타겟 성분인 탄탈륨의 증착을 위해 사용하는 것으로, - 스퍼터링 장비에 장착되도록 특정 형상을 갖추고 있고, 백킹플레이트가 도체(음극)로 작동하여 타겟에 전류가 흘러 증착이 가능하게 하며, 증착 공정 시 타겟에서 발생하는 열을 챔버 내 냉각시스템으로 전달하여 과열을 방지하므로 제8486호 반도체 제조용 기계인 스퍼터링 기계의 부분품으로 분류함이 타당함 - 따라서, 본 물품은 금속 증착에 필수적인 역할을 수행하는 반도체 제조용 기계의 전용 부분품으로 보아, 관세율표의 해석에 관한 통칙 제1호 및 제6호의 규정에 따라 제8486.90-2040호에 분류함. 끝. |
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