| 참조번호 | 품목분류4과-2705 |
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| 시행일자 | 2025-06-23 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8486.90-2040 |
| 품명 | 839-119690-302; PL,HTR,ATC,INR; |
| 물품설명 |
ㅇ 물품개요
- 반도체제조장비 중 플라즈마를 이용하여 웨이퍼를 식각하는 장비 chamber 상단부에 장착되는 Inner Heater plate로 가스를 분사하는 GDP(Gas Distribution Plate)를 사이에 두고 Inner Electrode에 열을 전달하여 공정 온도를 정밀하게 제어함으로써 식각 품질과 플라즈마 안정성을 향상 ㅇ 물품의 구성요소와 구성요소의 기능 <신청물품> 1. Power Pins : 히터 내부의 발열체(Heating Element)에 고전력 전원을 공급, 이 전원 공급을 통해 히터 플레이트는 식각공정에 필요한 온도로 가열됨. 2. Mounting Holes : 히터 플레이트를 정확하게 고정하기 위한 체결용 구멍으로 위치 정렬과 안정성 확보에 중요함. 3. Heater Plate Body : 열을 전달하고 전체 부품 구조를 지지하는 메인 구조체. 내부에는 발열체가 내장되어 있으며, 표면을 통해 웨이퍼 또는 공정 부품으로 열을 전달하며 고열전도성 재질(알루미늄)로 제작. 4. Heating Surface : 히터 플레이트의 상단 면 또는 하부 접촉면으로, GDP에 직접 열이 전달되는 영역, 이 면의 온도 균일성은 공정 품질에 직접적인 영향을 줌. <장착위치> |
| 결정사유 |
ㅇ 관세율표 제16부 주 제2호의 나목에서는 “특정한 기계나 동일한 호로 분류되는 여러 종류의 기계(제8479호나 제8543호의 기계를 포함한다)에 전용되거나 주로 사용되는 부분품은 그 기계가 속하는 호 분류한다.”라고 규정하고 있음.
ㅇ 관세율표 제8486호에는 “반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)ㆍ반도체디바이스ㆍ전자집적회로ㆍ평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, 이 류의 주 제11호 다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품”이 분류되며, - 동 호 해설서에는 “(3) 식각(etching)과 스트리핑(stripping) 감광액 박리장비” 그룹에는 “(b) 건식 플라즈마 식각(dry plasma etching)은 플라즈마(plasma) 에너지 대역에 가스와 함께 원료 물질이 제공되어 이방성 식각형태를 띄게 된다. 건식 식각기(dry-etcher)는 몇 가지 다른 방법으로 기체플라즈마(plasma)를 생성하여 반도체 웨이퍼로부터 박막재료를 제거한다.”고 해설하고 - (E) 부분품과 부속품 그룹에서는 “부분품의 분류에 관한 일반규정(제16부 총설 참조)에 의하여, 이 호에는 이 호에 분류하는 기계와 기기의 부분품과 부속품을 포함한다. 이에 따라 이 호에 분류하는 부분품과 부속품에는 특히, 이 호의 기계와 기기에 전용되거나 주로 사용하는 툴홀더(tool holder)와 그 밖의 특수 부착물 등을 포함한다.”라고 설명하고 있음 ㅇ 따라서 본 신청물품은 플라즈마를 이용하여 반도체 웨이퍼를 식각하는 장비의 Chamber상단에 장착되어 Inner Electrode에 열을 전달하여 공정 온도를 정밀하게 제어함으로써 식각 품질과 플라즈마 안정성을 향상시키는 반도체웨이퍼의 식각장비의 부분품에 해당하므로 관세율표의 해석에 관한 통칙 제1호 및 제6호에 따라 제8486.90-2040호에 분류함 |
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