| 참조번호 | 품목분류4과-744 |
|---|---|
| 시행일자 | 2025-02-11 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8486.90-2090 |
| 품명 | Main Shutter Unit; GG4-5819-000; 580㎜×410㎜×320㎜; JP; |
| 물품설명 |
- 반도체용 노광장비인 FPA-5520IZ2 장비 내의 조명계에 장착되어 수은 램프 광의 통과·차단하는 기능을 수행하며 노광작업을 하지 않을 시 수은램프 광을 차단하여 수은 램프 광으로 인한 열의 영향으로부터 노광 Shutter를 보호함(수은램프는 영구적으로 켜져 있음)
- 주요 구성요소 및 기능 ∙ Plus Motor 부 : Main Shutter 날개를 회전시켜 Open, Close 동작을 하도록 함. ∙ Photo Switch 부 : Main Shutter Open, Close 위치를 인식하는 기능을 수행 ∙ 수은램프 광 통과경로 : Main Shutter 날개가 Open시 수은램프 광이 통과되고 Close시 광을 차단하는 경로임 ∙ Main Shtter 날개부 : 수은램프 광을 차단하고 통과시키는 날개로써 노광 광을 차단하여 노광 Shutter를 수은램프 광으로 인한 열의 영향으로부터 보호하는 용도로 사용 |
| 결정사유 |
- 관세율표 제8486호에는 “반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)·반도체 디바이스·전자집적회로·평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, 이 류의 주 제11호다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품”이 분류되고
∙ 같은 호 해설서에서 “이 호에는 반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)·반도체 디바이스·전자집적회로·평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용하는 종류의 기계와 장치를 분류한다.”라고 설명하고 있으며 ∙ ‘(B) 반도체 디바이스나 전자집적회로 제조용 기계와 기기’ 그룹에서 “(4) 석판인쇄 장비(lithography equipment) : 감광액이 도포된 반도체 웨이퍼(wafer) 표면에 회로모형을 전사하는 기계”를 예시하고 있으며 ‘(d) 스텝 앤드 리피트 얼라이너(step and repeat aligner) : 한 번에 하나씩 해당 웨이퍼의 한 부분을 노광하는 투사기술을 사용한다. 마스크에서 웨이퍼(wafer)에 작은 형태로 복사하는 과정(축사, 縮寫)에서 노광(露光)되거나, 동일한 크기로 복사하는 과정에서 노광될 수 있다. 엑시머 레이저(excimer laser)를 향상시키는 것도 포함한다.“를 예를 들고 있음 ∙ 또한 ‘(E) 부분품 및 부속품’ 그룹에서 “부분품의 분류에 관한 일반규정(제16부 총설 참조)에 의하여, 이 호에는 이 호에 분류하는 기계와 기기의 부분품과 부속품을 포함한다. 이에 따라 이 호에 분류하는 부분품과 부속품에는 특히, 이 호의 기계와 기기에 전용되거나 주로 사용하는 툴홀더(tool holder)와 그 밖의 특수 부착물 등을 포함한다.”라고 설명하고 있음. - 본 물품은 반도체용 노광장비에 장착되어 수은 램프 광을 투광 또는 차광하는 기능을 하며 수은램프 광을 차단하여 수은 램프 광으로 인한 열의 영향으로부터 노광 Shutter를 보호하는 기능을 하는 물품으로 노광장비에 전용되거나 주로 사용되는 부속품으로 보아 관세율표의 해석에 관한 통칙 제1호 및 제6호에 의거 제8486.90-2090호에 분류함 |
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