| 참조번호 | 품목분류4과-739 |
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| 시행일자 | 2025-02-11 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8486.90-2090 |
| 품명 | Shutter Unit; GY1-1299-000; 550㎜×490㎜×480㎜; JP; |
| 물품설명 |
- 개요 : 본 물품은 반도체용 노광장비인 FPA-55550IZ 장비 내 조명계에 장착되어 Wafer면에 정해진 양의 노광 광이 조사되도록 수은 램프 광을 투광 또는 차광하는 기능 수행 - 구성요소 및 기능 ① AC SERVO MOTOR 부 : 노광 Shutter 날개를 회전시켜 원하는 시간만큼 여닫는 기능 수행 ② CONNECTOR 부 : Shutter Unit 내부 Photo Switch*와 접속 * Shutter 날개의 Open과 Close를 검지하는 역할 ③ Shutter 날개 부* : Shutter 날개가 회전하여 Wafer면에 정해진 양의 노광 광이 조사되게 하는 기능을 수행 * 외부는 SUS, 날개는 알루미늄 재질 |
| 결정사유 |
- 관세율표 제8486호에는 “반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)ㆍ반도체디바이스ㆍ전자집적회로ㆍ평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, 이 류의 주 제11호 다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품”이 분류되고, ․ 같은 호 해설서에 “(B) 반도체디바이스나 전자집적회로 제조용 기계와 기기 이 그룹에는 반도체디바이스나 전자집적회로 제조용 기계와 기기를 분류한다. 예를 들면, ..(중략).. (4)석판인쇄 장비(lithography equipment) : 감광액이 도포된 반도체 웨이퍼(wafer) 표면에 회로모형을 전사하는 기계로 예를 들면, ..(중략).. (b) 웨이퍼(wafer)에 도포된 포토레지스트에 회로모형을 노광하는 장비(또는 그 부분품) (i) 마스크(mask)나 레티클(reticle)을 사용하여 감광액을 빛(보통 자외선)이나 예를 들면, 엑스레이 등에 노출시키는 장비 (a) 밀착인화기(contact printer) : 노광(露光)하는 동안 마스크나 레티클(reticle)은 웨이퍼(wafer)에 접촉한다. (b) 근접형 정렬기(proximity aligner) : 마스크나 레티클(reticle)과 웨이퍼(wafer) 사이에 실제적인 밀착이 일어나는 것을 제외하고는 밀착인화기와 유사하다. (c) 스캐닝 정렬기(scanning aligner) : 끊임없이 위치를 바꾸어 움직이는 슬릿(slit)이 마스크와 웨이퍼(wafer)를 교차하여 노광하기 위하여 투사(projection)기술을 사용한다. (d) 스텝 앤드 리피트 얼라이너(step and repeat aligner) : 한 번에 하나씩 해당 웨이퍼의 한 부분을 노광하는 투사기술을 사용한다. 마스크에서 웨이퍼(wafer)에 작은 형태로 복사하는 과정(축사, 縮寫)에서 노광(露光)되거나, 동일한 크기로 복사하는 과정에서 노광될 수 있다. 엑시머 레이저(excimer laser)를 향상시키는 것도 포함한다.”라고 예시하고 있음. ․ 또한 “(E) 부분품과 부속품”해설에서 “부분품의 분류에 관한 일반규정(제16부 총설 참조)에 의하여 이 호에 분류하는 기계와 기기의 부분품과 부속품을 포함한다. 이에 따라 이 호에 분류하는 부분품과 부속품에는 특히, 이 호의 기계와 기기에 전용되거나 주로 사용하는 툴홀더(tool holder)와 그 밖의 특수 부착물 등을 포함한다.”라고 해설함 - 따라서, 본 물품은 반도체용 노광장비 내 조명계에 장착되어 Wafer면에 정해진 양의 노광 광이 조사되도록 수은 램프 광을 투광 또는 차광하는 기능 수행하는 부분품에 해당하므로 관세율표 해석에 관한 통칙 제1호 및 제6호에 따라 제8486.90-2090호에 분류함 |
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