| 참조번호 | 품목분류4과-7958 |
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| 시행일자 | 2024-11-21 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8486.90-2090 |
| 품명 | EUV Pellicle; EUV Pellicle; A1A00-FBDB; JP; |
| 물품설명 |
- 반도체 제조용 장비인 노광기 내에서 포토마스크 또는 레티클에 결합되어 포토마스크나 레티클이 먼지 등에 오염되지 않도록 보호하는 기능과 파티클 등으로 인하여 마스크 상의 패턴이 왜곡되지 않도록 해주는 기능을 수행하는 물품
- 주요 구성요소 및 기능 ․Membrane : EUV 노광시 EUV光 통과 및 Photomask의 오염을 방지(재질 : 실리콘(Si)) ․Membrane border : Membrane의 형태를 유지(재질 : 실리콘(Si)) ․Frame : Membrane과 Membrane border를 지지(재질 : 실리콘(Si)) ․Fixation : Pellicle(Membrane+Membrane border+Frame)을 Photomask에 장착하기 위한 부품(재질 : 티타늄(Titanium)) ․Reticle interface(Stud) : Fixation을 거치하기 위한 부품(티타늄) |
| 결정사유 |
- 관세율표 제8486호에는 “반도체 보울 또는 웨이퍼·반도체디바이스·전자 집적회로 또는 평판디스플레이의 제조에 전용 또는 주로 사용되는 기계와 기기, 이 류의 주 제11호 다목에서 특정한 기계와 기기 및 부분품과 부속품”이 분류되고
․같은 호 해설서에서 “이 호에는 반도체 볼 또는 웨이퍼·반도체디바이스·전자집적회로 또는 평판디스플레이의 제조에 전용 또는 주로 사용되는 기계와 기기를 분류한다.”라고 설명하고 있으며 ․‘(B) 반도체 디바이스나 전자집적회로 제조용 기계와 기기’ 그룹에서 “(4) 석판인쇄 장비(lithography equipment) : 감광액이 도포된 반도체 웨이퍼(wafer) 표면에 회로모형을 전사하는 기계”를 예시하고 있음 ․또한 ‘(E) 부분품 및 부속품’ 그룹에서 “부분품의 분류에 관한 일반규정(제16부 총설 참조)에 의하여, 이 호에는 이 호에 분류되는 기계 및 기기의 부분품과 부속품을 포함한다. 이에 따라 이 호에 분류되는 부분품과 부속품에는 특히, 이 호의 기계 및 기기에 전용 또는 주로 사용되는 툴홀더와 그 밖의 특수 부착물 등이 포함된다.”라고 설명하고 있음. - 본 물품은 반도체 제조장비인 노광기에서 포토마스크 또는 레티클에 결합되어 포토마스크나 레티클이 먼지 등에 오염되지 않도록 보호하고 파티클 등으로 인하여 마스크 상의 패턴이 왜곡되지 않도록 해주는 기능을 수행하는 물품으로 노광장비에 전용 또는 주로 사용되는 부속품으로 보아 관세율표의 해석에 관한 통칙 제1호 및 제6호에 의거 제8486.90-2090호에 분류함 |
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