| 참조번호 | 품목분류4과-6012 |
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| 시행일자 | 2024-09-03 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8486.90-2040 |
| 품명 | ALN HEATER; CA-02001; JP; |
| 물품설명 |
- 반도체 증착(CVD) 장비에 장착하며, 웨이퍼를 안착하여 수평을 유지하고 웨이퍼에 열을 전달하여 적정 온도로 유지시켜주는 기능
- 주요 구성요소 및 기능 ․ALN 히터 플레이트: 웨이퍼를 올려놓고 히팅을 하기 위한 플레이트로 실제 발열체. ․ALN Shaft: ALN 히터 플레이트를 지지하고 내부에 장착되어 있는 각종 부품들을 Gas로부터 보호하기 위한 부분. ․Power rod: ALN 히터 플레이트의 Power 단자에 연결되는 부위로서 Power 공급역할. ․T/C: 온도조절 센서 ․Gas Line: N2 가스를 ALN Shaft 내부에 흘려 내부에 장착된 부품이 과열되지 않도록 Cooling 해주는 Port |
| 결정사유 |
- 관세율표 제16부 주 제2호 나목은 “특정한 기계나 동일한 호로 분류되는 여러 종류의 기계(제8479호나 제8543호의 기계를 포함한다)에 전용되거나 주로 사용되는 부분품은 그 기계가 속하는 호 … 로 분류한다.”라고 규정함
- 관세율표 제8486호에는 “반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)ㆍ반도체 디바이스ㆍ전자집적회로ㆍ평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, … 그 부분품과 부속품”이 분류되고, HSK 제8486.90-2040호에 “도포ㆍ현상ㆍ증착ㆍ식각용 기기”의 부분품을 세분류함 ㆍ같은 호 해설서에서 “(B)반도체디바이스나 전자집적회로 제조용 기계와 기기”그룹에서 “(1) 막 형성 장비(film formation equipment) : 이 장비는 웨이퍼(wafer) 가공 공정에서 웨이퍼(wafer) 표면에 여러 가지 막을 형성한다. 이러한 막은 완성된 디바이스 상에서 도체, 절연체와 반도체 역할을 한다.”라고 설명하면서 “(b) 화학기상증착(CVD : Chemical Vapour Deposition) 장비 : 이 장비는 높은 온도의 반응 체임버(chamber) 내에서 적절한 가스와 결합하여 만든 여러 가지 형태의 필름을 증착시키는 장치이다.”를 예시함 ㆍ또한 “(E)부분품과 부속품”그룹에서 “이 호에는 이 호에 분류하는 기계와 기기의 부분품과 부속품을 포함한다. 이에 따라 이 호에 분류하는 부분품과 부속품에는 특히, 이 호의 기계와 기기에 전용되거나 주로 사용하는 툴홀더(tool holder)와 그 밖의 특수 부착물 등을 포함한다.”라고 설명함 - 본 물품은 반도체 제조공정 중 화학증착장비에 장착되어 균일한 박막 증착이 가능하도록 웨이퍼를 안착하여 수평을 유지하고 웨이퍼에 열을 전달하여 적정 온도로 유지하는 물품이므로 관세율표 해석에 관한 통칙 제1호 및 제6호의 규정에 따라 제8486.90-2040호에 분류함 |
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