| 참조번호 | 품목분류4과-1573 |
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| 시행일자 | 2024-03-20 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8486.90-2030 |
| 품명 | HEATER ESC; NI181454; 12 INCH; |
| 물품설명 |
- 반도체 제조용 이온주입 장비의 챔버에 장착되는 ESC(Electrostatic chuck)로 Substrate, Emboss, Electrode, Heater 등으로 구성된 원형 형상의 물품
- (용도) 정전기력을 발생하여 Wafer를 흡착하고 공정상 Wafer의 온도를 500도까지 올리는 기능 - 주요 구송요소 및 기능 ․Substrate : ESC 바디로 내부에 Elctrode 및 heater가 장착되고 내부에 냉각 채널이 형성되어 있음(Graphite + SUS) ․Emboss : 엠보싱된 상단 플레이트로 Wafer에 접촉되는 단면적을 줄여 Back side particle을 최소화함(Pyrolytic Boron Nitride) ․Electrode : 정전기력이 발생하도록 전압을 인가하는 부분 ․Heater : ESC의 온도를 올리기 위해 전류를 인가하는 부분 |
| 결정사유 |
- 관세율표 제16부 주 제2호 나목은 “특정한 기계나 동일한 호로 분류되는 여러 종류의 기계(제8479호나제8543호의 기계를 포함한다)에 전용되거나 주로 사용되는 부분품은 그 기계가 속하는 호”에 분류하도록 규정함
- 관세율표 제8486호에는 “반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)ㆍ반도체 디바이스ㆍ전자집적회로ㆍ평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, 이 류의 주 제11호 다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품”을 분류하고 ․같은 호 해설서에서 ‘(B) 반도체디바이스나 전자집적회로 제조용 기계와 기기’ 그룹에서 이 호에 포함되는 것으로 “(b) 이온주입기(Ion Implantation) : 가속된 이온빔의 형태로 웨이퍼(wafer) 표면의 단결정 격자구조 내로 불순물을 이동시킨다.”를 예시하고 있고 ․‘(E)부분품과 부속품’ 그룹에서 “이 호에 분류하는 부분품과 부속품에는 특히, 이 호의 기계와 기기에 전용되거나 주로 사용하는 툴홀더(tool holder)와 그 밖의 특수 부착물 등을 포함한다.”라고 설명하고 있음 - 본 물품은 반도체 제조용 이온 주입 장비의 챔버 내부에 장착되어 정전력을 이용하여 웨이퍼를 고정하는 정전식 척이므로 관세율표 해석에 관한 통칙 제1호 및 제6호의 규정에 따라 제8486.90-2030호에 분류함 |
| 이미지건수 | 1 |
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