| 참조번호 | 품목분류4과-9703 |
|---|---|
| 시행일자 | 2022-12-27 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8486.90-2040 |
| 품명 | AL PLATE; ALUMINIUM PLATE |
| 물품설명 |
ㅇ 물품 개요
- 반도체 웨이퍼 건식 식각장비에 장착되는 정전식 척(ESC)의 일부를 구성하는, 디스크 형상에 수 개의 홀 가공과 평면 및 Blasting 가공이 되어 있는 알루미늄 재질의 물품(직경 : 293.6mm, 두께 : 16mm) - 정전식 척은 Ceramic Plate, AL Heater, Al Body 등이 접합되어 구성되고, 신청 물품에 PI Film Heater를 접착한 것이 AL Heater이며, AL Heater와 Ceramic Plate가 접합되기 전에 AL Plate의 수평도를 높이는 절삭 가공이 이루어짐 - ESC Heater 패턴의 Base 및 역확산판 역할을 수행함 |
| 결정사유 |
ㅇ 관세율표의 해석에 관한 통칙 제2호 가목에서 “각 호에 열거된 물품에는 불완전한 물품이나 미완성된 물품이 제시된 상태에서 완전한 물품이나 완성된 물품의 본질적인 특성을 지니고 있으면 그 불완전한 물품이나 미완성된 물품이 포함되는 것으로 본다.”라고 규정하고 있음
- 본 물품은 반도체 웨이퍼 식각장비의 정전식 척의 구성품으로서 Ceramic Plate와 접합되기 전 수평도를 높이기 위한 절삭 가공이 이루어지나, 이미 홀가공과 평면 및 Blasting 가공이 이루어져 완성된 물품의 본질적인 특성을 지니고 있는 것으로 판단됨 ㅇ 같은 표 제8486호에는 “반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)ㆍ반도체 디바이스ㆍ전자집적회로ㆍ평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, 이 류의 주 제11호다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품”이 분류되며, - 같은 호 해설서 ‘(B) 반도체디바이스나 전자집적회로 제조용 기계와 기기’에서 “건식 플라즈마 식각(dry plasma etching) : 플라즈마(plasma) 에너지 대역에 가스와 함께 원료 물질이 제공되어 이방성 식각형태를 띄게 된다. 건식 식각기(dry-etcher)는 몇 가지 다른 방법으로 기체플라즈마(plasma)를 생성하여 반도체 웨이퍼로부터 박막재료를 제거한다.”라고 예시하고 있으며, - ‘(E) 부분품과 부속품’에서 “부분품의 분류에 관한 일반규정(제16부 총설 참조)에 의하여, 이 호에는 이 호에 분류하는 기계와 기기의 부분품과 부속품을 포함한다.”라고 설명하고 있음 ㅇ 또한, 같은 표 제16부 주 제2호 나목에서 “그 밖의 부분품으로서 특정한 기계나 동일한 호로 분류되는 여러 종류의 기계에 전용되거나 주로 사용되는 부분품은 그 기계가 속하는 호에 분류한다.”라고 규정하고 있음 ㅇ 따라서, 본 물품은 반도체 웨이퍼 식각장비에 장착되는 정전식 척을 구성하는 물품으로서, 웨이퍼 표면을 식각하는 장비의 부분품으로 보아 관세율표의 해석에 관한 통칙 제1호, 제2호 가목 및 제6호에 따라 제8486.90-2040호에 분류함. |
| 이미지건수 | 1 |
| 관련 이미지 |
|