| 참조번호 | 품목분류4과-10839 |
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| 시행일자 | 2019-08-21 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8486.90-2010 |
| 품명 | Part of dry plasma etching equipment; CFR RING; 8.4T CFR FLAT RBP DS75-8 |
| 물품설명 |
반도체디바이스 제조 장비인 건식 플라즈마 식각 기기의 챔버 내 설치되는 실리콘(Si) 재질의 링 형상의 물품으로 내경부에 300mm 웨이퍼를 놓을 수 있게 홈가공 되어 있음(규격 : 외경 334.8㎜, 내경 295.96㎜, 두께 8.4㎜)
- 용도 : 건식 플라즈마 식각 기기 챔버에서 웨이퍼 외각부위의 식각이 정상적으로 되도록 하고, 공정 중 발생하는 열을 조절하는 기능 |
| 결정사유 |
ㅇ 관세율표 제8486호에는 “반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)·반도체디바이스·전자집적회로·평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, 이 류의 주 제9호다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품”이 분류되며,
- 같은 호 HS 해설서 (B) 반도체디바이스나 전자집적회로 제조용 기계와 기기 그룹에 ‘건식 플라즈마 식각 장비’를 예시하고 있고, - (E) 부분품과 부속품 그룹에서 “부분품의 분류에 관한 일반규정(제16부 총설 참조)에 의하여, 이 호에는 이 호에 분류하는 기계와 기기의 부분품과 부속품을 포함한다. 이에 따라 이 호에 분류하는 부분품과 부속품에는 특히, 이 호의 기계와 기기에 전용되거나 주로 사용하는 툴홀더(tool holder)와 그 밖의 특수 부착물 등을 포함한다.”라고 설명하고 있음 ㅇ 따라서 본 물품은 실리콘(Si) 재질로 만든 건식 플라즈마 식각 장비에 전용되도록 설계된 부분품이므로 관세율표의 해석에 관한 통칙 제1호 및 제6호에 의하여 제8486.90-2010호에 분류함 |
| 이미지건수 | 2 |
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