| 참조번호 | 품목분류3과-2155 |
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| 시행일자 | 2015-08-07 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 9031.41-9000 |
| 품명 | WaferSight2 |
| 물품설명 |
반도체웨이퍼에 레이저 빛을 조사하여 투과된 빛을 간섭계*원리를 응용하여 웨이퍼의 평탄도, 두께, Shape을 측정·분류하는 장비(규격 : 1626 x 2328 x 2125 (세로x가로x높이(mm), 무게 : 956kg)
* 간섭계(interferometer) : 동일한 광원에서 나오는 빛을 두 갈래 이상으로 나누어 진행경로에 차이가 생기도록 한 후 빛이 다시 만났을 때 일어나는 간섭현상을 측정하는 장치(두산백과) : test beam과 reference beam 간의 상(phase) 차이를 조합/분석하여 측정값을 산출함 ㅇ 주요구성요소 ① Load Port : 2개로 구성되어 있으며 FOUP사용 ② EFEM(End Front Equipment Module): Transfer Robot 1EA , Pre-Aligner 1EA, Capacitive Gauge, Buffer Stage ③ Automation : Interferometer로 Wafer를 이송하기 위한 장치 ④ Control Cabinet : 장비 Control을 위한 PC Lack 및 전원공급장치로구성 ⑤ 측정부 : Double Side Interferometer 2EA, CCD Camera 2EA, Laser Source, Mirror로 구성 ⑥ 진동제어부(Active Isolation System) : 본체를 지지하는 기역자(‘ㄱ') 형태 (재질 : 철강)의 스테이션으로 하단부분에는 진동감지센서에 의해 진동을 감지하고 진동을 Piezo Actuator에 의해 감쇄시키는 Active Isolator와 본체의 Loading부를 떠받치는 탁자형태의 철강구조물로 구성되어 있음 |
| 결정사유 |
ㅇ 관세율표 제90류 주3호에는“제16부의 주 제3호와 제4호는 이 류에도 적용한다”고 하고, 관세율표 제16부 제4호에는 “하나의 기계(여러 종류의 기계가 결합된 것을 포함한다)가 각종 개별기기로 구성되어 있는 경우에도(따로 분리되어 있는지 또는 배관·전동장치·전력케이블이나 그 밖의 장치로 상호 연결되어 있는지에 상관없다) 이들이 제84류나 제85류 중의 어느 호에 명백하게 규정된 기능을 함께 수행하기 위한 것일 때에는 그 전부를 그 기능에 따라 해당하는 호로 분류한다”고 규정함
- 신청물품(본체:WaferSight)은 간섭계를 이용한 Nanometer 단위의 미세위상차를 측정하는 장비라 Vibration에 민감하여 진동제어가 필요에 따라 본체(WaferSight) 장비의 하단에 설치된 진동제어부(Active Isolation System)는 본체(WaferSight) 규모에 맞게 특별제작된 형태로서 제90류의 측정·검사 기능을 수행하므로 전체를 기능단위 기기(Functional unit)로 분류함 ㅇ 관세율표 제9031호의 용어에 “기타의 측정 검사용의 기기와 윤곽투영기”를 규정하고 있고 - 제9031.41소호에는 “반도체웨이퍼 및 소자검사용 또는 반도체 소자 제조에 사용되는 포토마스크 또는 레티클 검사용의 것”을 분류하고 있고, - 같은 호 해설서에서 "(4)광파간섭계, (5) 광학식표면검사기, (6) 광학적관측기를 갖춘 장치 : 윤곽 및 표면의 상태를 사진으로 기록 측정하는 것“의 각종 기기를 예시하고 있음 ㅇ 따라서 본 물품은 90류의 타호에 분류되지 않고 CCD 카메라 등 광학적 요소를 사용하여 웨이퍼의 평탄도, 두께, Shape을 측정하는 반도체 웨이퍼 검사용 광학기기에 해당하므로 관세율표 해석에 관한 통칙 제1호 및 제6호에 의거 제9031.41-9000호에 분류함 |
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