| 참조번호 | 품목분류2과-8494 |
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| 시행일자 | 2014-12-18 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8486.90-2010 |
| 품명 | Part of Dry plasma etching equipment; CATHODE; 839-443215-502; R.KOREA |
| 물품설명 |
ㅇ 개요
반응성 이온 식각(RIE)장비에서 전극을 형성하는 기기로 가장자리부터 Graphite, Silicon으로 구성된 원판상의 물픔임 ㅇ 용도 및 기능 반응성 이온 식각(RIE)장비는 챔버내에 GAS를 넣고 양 전극에 고주파를 가하면 플라즈마가 생성되며 이것을 이용하여 웨이퍼를 식각 하는데, - 신청 물품은 GAS의 균일한 분사와 플라즈마(Radical. e+) 생성을 위한 전극 역할을 함 |
| 결정사유 |
ㅇ 관세율표 제8486호에는 “반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)ㆍ반도체디바이스ㆍ전자집적회로ㆍ평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, 이 류의 주 제9호다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품”을 규정하고 있고,
- 같은 호 해설서에 “(b) 건식 플라즈마 식각 : 플라즈마 에너지대역에 가스와 함께 원료물질이 제공되어 이방성 식각형태를 띄게 된다. 건식식각기는 몇 가지 다른 방법으로 기체플라즈마를 생성하여 반도체웨이퍼로부터 박막재료를 제거한다.”를 규정하고 있음 ㅇ 본 품은 건식 플라즈마 식각 장비에서 플라즈마를 생성하기 위한 전극을 형성하는 기기로 해당기기의 필수적인 부분품임 ㅇ 따라서, 관세율표 해석에 관한 통칙 제1호 및 제6호의 규정에 따라 제8486.90-2010호에 분류함 |
| 이미지건수 | 1 |
| 관련 이미지 |
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