| 참조번호 | 품목분류2과-2712 |
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| 시행일자 | 2014-04-16 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8486.90-2010 |
| 품명 | Retainer ring for CMP(Chemical Mechanical Planariztion); Retainer Ring; Q310-072500 (Set0502008-01-R02); R.KOREA |
| 물품설명 |
전면부에 홈 가공되어 있는 링형상의 것과 후면부에 홀 가공되어 있는 링형상의 것을 접합한 물품(재질 : 전면 PEEK+후면 SUS)
- 용도 : 반도체 웨이퍼 CMP(Chemical Mechanical Planariztion)공정의 부품으로 웨이퍼 평탄화 작업(연마)시 본건 물품을 장착하여 웨이퍼를 고정시킴으로써 웨이퍼의 Slip out 방지 등의 역할 수행 |
| 결정사유 |
- 관세율표 제8486호에는 “반도체 보울(boule)이나 웨이퍼(wafer)·반도체디바이스·전자집적회로·평판디스플레이의 제조에 전용되거나 주로 사용되는 기계와 기기, 이 류의 주 제9호 다목에서 특정한 기계와 기기, 그 부분품과 부속품”이 분류되고,
- 동 호 해설서에서 “부분품의 분류에 관한 일반규정(제16부 총설 참조)에 의하여, 이 호에는 이 호에 분류되는 기계 및 기기의 부분품과 부속품을 포함한다. .... 이 호의 기계 및 기기에 전용 또는 주로 사용되는 툴홀더 및 기타 특수 부착물 등이 포함된다.”라고 설명하고 있음 - 본 품은 CMP에 장착되어 wafer slip(이탈) out 방지 등의 역할을 수행하는 링 형상의 물품으로 반도체 웨이퍼 가공용의 연마기(제8486.20-9310호)의 부분품에 해당하므로 관세율표 해석에 관한 통칙 제1호 및 제6호에 의거 제8486.90-2010호에 분류함 |
| 이미지건수 | 2 |
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