| 참조번호 | 품목분류2과-9302 |
|---|---|
| 시행일자 | 2012-12-11 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8421.39-9020 |
| 품명 | - GAS PURIFICATION SYSTEM ; AGPSCZ21413000 ; XCDA GAS PURIFICATION SYSTEM 2KSLM |
| 물품설명 |
- 물품개요
· CDA(Compressed Dry Air)를 관을 통해 공급받아, Catalyst(촉매)가 충전된 용기(BED)에서 반응하여 XCDA(Extreme Clean Dry Air)를 관을 통해 PHOTOLITHOGRAPHY 반도체 장비(SCANNER)에 공급하는 가스청정기 · BED(3개), BED를 재생시 나오는 수분을 제거하기 위한 heater, 각종 밸브 및 유량계 등이 동일 하우징 내부에 구성되어 있음 ※ XCDA 순도 · moisture : 100 ppt 이하 · volatile acids : 1 ppt 이하 · volatiel bases : 10 ppt 이하 · refractory compounds : 1 ppt 이하 · condensable organics : 1 ppt 이하 * XCDA가 CDA에 비해 100,000 ~ 1,000,000배정도 purity 증가함 - 기능 및 용도 · 반도체 제조과정 중 photolithography 미세공정에 요구되는 미세먼지와 습기 등을 제거하여 공급하는, 반도체 제조용의 가스 청정기 |
| 결정사유 |
- 관세율표 제8421호에는 “원심분리기(원심탈수기를 포함한다) 및 액체나 기체용의 여과 또는 청정기”가 분류되며,
· 같은 호의 해설서에서 “이 호에는 다음의 것이 포함된다. ... (II) 액체용 또는 기체용의 여과기 및 청정기 여과용 기계류나 장치ㆍ우유여과기ㆍ페인트 여과용 여과기는 제외한다(일반적으로 제73류)”고 설명하면서, · 같은 호의 해설서 “(II) 액체 또는 가스의 여과용 또는 청정용기기”에서 “이 호에 분류되는 여과용 또는 청정용 장치는 가동부분이 없이 전적으로 정지장치로 된 것이 많다. 이 호에는 모든 형(물리식·화학식·기계식·자석식·전자식·정전식등)의 여과기 및 청정기가 포함된다. 또한 이 호에는 모든 거대한 공업용장치 뿐만 아니라 내연기관용 여과기와 소형의 가정용기구도 포함된다. ... (B) 기체용의 여과기와 청정기에는 “이 기체용의 여과기와 청정기는 기체로부터 고체상 및 액체상의 입자를 분리하는데 사용되며 유가물을 회수하거나 유해한 물질을 제거하는데 사용된다(예 : 가스 또는 연무로부터의 먼지와 타르 등의 제거 등) ... ”라고 해설하고 있음 - 본 품은 반도체 제조장비에 particle 및 분자형 오염물질 등이 제거된 고순도의 공기를 공급하기 위한 청정기로서, 처리되는 물질의 상태가 기체이고 반도체 제조공정에 사용하기 위한 청정기이므로 “반도체 제조용의 가스청정기”에 해당함 - 따라서 본 품은 관세율표의해석에관한통칙 제1호 및 제6호 규정에 따라, HSK 제8421.39-9020호에 분류함. 끝. |
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