| 참조번호 | 품목분류과-107872 |
|---|---|
| 시행일자 | 2007-02-28 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 물품1 : 제8486.20-7000호(07개정전 8479.89-2092), 물품2 : 제8479.89-9099호(07개정전 8479.89-2099) |
| 품명 |
[물품1] Apparatus for wet cleaning semiconductor wafer ; BW-3000 Series [물품2] Si Collect system |
| 물품설명 | □ 물품 개요@§ ㅇ[물품1] 웨이퍼 세척장치@§ 웨이퍼표면에 있는 불순물을 제거하기 위해 화학약품과 초순수를 이용@§하여 웨이퍼를 세척하는 장치(①Loader/Unloader, ②Chemical Bath, ③@§UPW Rinse Bath, ④Mega Sonic Bath, ⑤ Dryer 등으로 구성)@§ ㅇ[물품2] Si Collect System@§ 웨이퍼세척장치에서 사용한 인산용액을 회수, 냉각, 여과하고 일정 온@§도(163℃)로 상승시키면서 인산용액의 농도를 조절하여 다시 웨이퍼세척장@§치의 Chemical Bath로 공급하는 장치(㉠Circulation Pump, ㉡Chiller, ㉢1@§차/2차 Filter, ㉣ Concentrate Tank & Heater Coil ㉤Power Rack 등으로 @§구성)@§@§□ 구조 및 기능(신청인 제시 물품설명서)@§ [물품1] 웨이퍼 세척장치@§ ① Loader/Unloader : 세정하고자 하는 Foup(Wafer 25매 담을 수 있는 @§상자)을 장착하거나, 세정이 끝난 Wafer를 Foup에 장착하는 기능@§ ② Chemical Bath : 화학약품을 일정온도로 공급하여 Wafer를 처리하는 @§액조@§ ③ UPW Rinse Bath : Chemical Bath에서 처리한 Wafer를 UPW(초순수)로 @§세정하는 기능을 수행@§ ④ Mega Sonic Bath : 오염입자 부착상태가 견고할 경우 초음파를 이용 @§입자를 제거하는 액조@§ ⑤ Dryer : Wafer의 수분을 제거하기 위해 일정량의 IPA(이소프로필알@§콜)를 가온하여 기화시키는 Wafer 건조장치@§@§ [물품2] Si Collect System @§ ㉠ Circulation Pump : Chemical Bath에서 사용한 인산용액을 Si @§Collect System으로 이송해주는 펌프@§ ㉡ Chiller : 이송되는 인산용액(163℃)을 저온(60℃)으로 낮추기 위하@§여 초순수(Di Water)를 가하고 냉각수 순환방식으로 인산용액의 온도를 낮@§추는 장치@§ ㉢ 1차/2차 Filter : 저온(60℃)으로 낮춘 인산용액의 Si성분을 1차@§(0.1um), 2차(0.05um)에 걸쳐 제거하는 필터 @§ ㉣ Concentrate Tank(3조) @§ 탱크내의 Heater Coildlm 작동으로 여과된 인산용액을 세척기에서 필@§요한 온도(163℃)로 상승시키며 이때 온도상승에 따라 초순수의 증발로 인@§산용액의 농도를 조절하는 탱크@§ ㉤ Power Rack : Wet Cleaning System과 연결되어 인산용액의 이송, 냉@§각, 가열공정을 조절하는 장치 |
| 결정사유 |
[물품 1] ㅇ 관세율표 제8486호에는 반도체 보울 또는 웨이퍼,반도체디비이스,전 자집적회로 또는 평판디스플레리의 제조에 전용 또는 주로 사용되는 기계 와 기기, 이 류의 주 제9호 다목에서 특정한 기계와 기기 및 부분품과 부 속품이 분류되며, - 동호 해설서에서도 반도체디바이스 또는 전자집적회로 제조용 기계와 기기 중에서 세척기를 예시하고 있음 ㅇ 본품은 Loader/Unloader, Chemical Bath, UPW Rinse Bath, Mega Sonic Bath, Dryer 등으로 구성되어 웨이퍼표면에 있는 불순물을 제거하 기 위해 화학약품과 초순수를 사용하여 습식방식으로 웨이퍼를 세척하는 장치임 ㅇ 따라서, 본품은 관세율표 제8486호의 용어에 따라 제8486.20-7000호 에 분류함. [물품2] ㅇ 관세율표 제8479호에는 이 류의 다른 곳에 열거되지 아니하거나 포 함되지 아니한 기계류(고유의 기능을 가진 것에 한한다)가 분류되며, - 동호 해설서에서 기계의 기능이 다른 어떤 기계 또는 기기로부터 별 개로 또한 독립하여 작용될 수 있는 기계(전동기 또는 기타의 구동장치가 부착되어 있는지의 여부를 불문한다) 등은 고유의 기능을 가진 것으로 간 주한다 라고 규정하고 있음 ㅇ 본품은 Circulation Pump, Chiller, 1차/2차 Filter, Concentrate Tank, Power Rack 등으로 구성되어 있으며, 세척제로 사용한 인산용액을 회수하여 초순수를 가하고 냉각수 순환방식으로 냉각하여(Si 석출) 여과하 고 남은 인산용액을 일정 온도(약 163℃)로 상승시키며 온도상승에 따른 초순수의 증발로 인산용액의 농도를 조절하여(약 86%) 세척기(Chemical Bath)로 공급하는 고유의 기능을 수행하는 장치임 ㅇ 따라서, 본품은 관세율표 제8479호의 용어에 따라 제8479.89-9099호 에 분류함. |
| 이미지건수 | 0 |
| 관련 이미지 |