| 참조번호 | 품목분류과-107357 |
|---|---|
| 시행일자 | 2006-07-14 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8456.99-9000 |
| 품명 | Photomask etching system; CENTURA TETRA Ⅱ;; 미국산 |
| 물품설명 | □ 물품 개요@§ Mainframe, Plasma 식각용 Chamber, 진공펌프, AV-Rack 등으로 구성된 @§것으로서 Photomask 제조공정에서 블랭크마스크를 노광, 현상한 Mask의 @§Chrome, Mo-Si, Quartz를 Plasma를 이용하여 건식 식각하는 장치임@§@§ □ 구성 및 형태(신청인 작성 물품설명서)@§ ㅇ Applied Materials Standard Centrtura AP platform(Mainframe)@§ ㅇ Chrome, Mo-Si, Quartz의 Plasma 건식식각용 Chamber 3개@§ ㅇ 진공펌프 : 각 Chamber의 진공상태 유지를 위한 장치@§ ㅇ AC-Rack : 안정적인 전원공급 장치@§@§ □ 특징@§ ㅇ 65nm node급 공정 성능 구현@§ ㅇ Multi-chamber 장착기능으로 탁월한 확장성 유지 @§ ㅇ Chrome, Mo-Si, Quartz etch 가능 @§ ㅇ Real-time optical emission endpoint monitoring : @§ 식각의 정도를 조절할수 있는 장치@§ ㅇ Production-proven AMAT 300mm Wafer chamber technology |
| 결정사유 |
ㅇ 관세율표 제8456호에는 “각종재료의 가공공작기계(레이저 또는 기타 광선, 광자빔, 초음파, 방전, 전기화학, 전자빔, 이온빔, 풀라스마 아크 방식에 의하여 재료의 일부를 제거하여 가공하는 것에 한한다)”가 분류되 며, - 동호 해설서에서 “이 호의 공작기계는 각종재료의 성형 또는 표면가 공용의 기계이다. 이러한 공작기계는 (i) 재료를 제거하는 방법으로 가공 하여야 하며, (ii) 약정된 공구(conventional tools)를 갖춘 공작기계에 의하여 이루어지는 작업을 수행하여야 하고 (iii) 이러한 공작기계는 레 이저 또는 기타광선과 광자빔, 초음파, 방전, 전기화학, 전자빔, 이온빔 또는 프라스마아크방식 등 7가지 공정중의 하나를 사용하여야 한다” 라 고 규정하고 있음. ㅇ 본건 물품은 Mainframe, Plasma 식각용 Chamber, 진공펌프, AV-Rack 등으로 구성된 것으로서 Photomask 제조공정에서 블랭크마스크를 노광, 현 상한 Mask의 Chrome, Mo-Si, Quartz를 Plasma를 이용하여 건식 식각하는 장치임 ㅇ 따라서 본건 물품은 기타 재료를 Plasma를 이용하여 가공(식각)하는 공작기계(8456.99-9000호)로 분류함. |
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