| 참조번호 | 품목분류과-106591 |
|---|---|
| 시행일자 | 2006-02-17 |
| 시행기관 | 관세평가분류원 |
| 결정세번 | 8421.39-9020 |
| 품명 | DryScrub ; 2DH |
| 물품설명 | ㅇ 기능 및 용도@§- 반도체 제조공정에서 CVD장비의 배기 Gas를 이온화하여 독성/폭발성 Gas@§를 Electrode위에 단단한 고체 막으로 전환시키고 환경 친화적인 중화된 @§Gas로 배출@§- 반도체 제조 공정 설비 중 하나인 CVD장비의 Process Gas를 공정 진행 @§후 배기시킬 때 Gas의 Powder로 인한 진공 배관 및 Pump의 막힘 현상 및 기@§능 저하를 방지하기 위함@§ㅇ 주요 구성요소 및 기능@§- Chamber : 진공배관의 Vacuum을 유지@§- Electrode : Chamber내부에 장착되며 RF Power가 공급되어 Plasma를 형성@§- Power Supply : RF Power를 공급하는 장치@§ㅇ 작동원리@§- CVD장비에서 발생된 배출 Gas는 Exhaust Gas Line에 설치된 DryScrub를 @§거쳐 별도의 Vacuum Pump를 통하여 배출됨@§- 배출 Process가 진행되면 DryScrub Chamber에 RF Power를 공급하고@§- 배출 Gas를 이온화시키게 되며@§- 이온화된 Gas 일부는 재결합되어 Electrode에 침착하게 되고 나머지는 별@§도의 Pump를 통하여 배출됨 |
| 결정사유 |
ㅇ 관세율표 제8421호에는 “기체용의 여과 또는 청정기”를 규정하고 있고 - 관세통계통합품목분류표(HSK) 제8421.39-9020호에서는 반도체제조용의 기 체 여과기와 청정기를 규정 ㅇ 본 물품은 반도체 제조공정에서 CVD장비의 배기 Gas를 이온화하여 독성/ 폭발성 Gas를 Electrode위에 단단한 고체 막으로 전환시키고 환경 친화적 인 중화된 Gas로 배출하는 것으로 반도체제조용의 기체 여과기와 청정기에 해당 ㅇ 따라서 통칙1의 규정에 의거 반도체제조용의 기체 여과기와 청정기 (8421.39-9020)로 분류 |
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