| 참조번호 | 평가분류47281-687 |
|---|---|
| 시행일자 | 2001-07-23 |
| 시행기관 | 관세청 |
| 결정세번 | 8421.19-4000 |
| 품명 | Centrifugal dryers;Spin rinser drier;SuperClean SRD 1600-55M;Verteq ; For semiconductor wafer processing |
| 물품설명 |
ㅇ원심력을 이용하여 반도체 웨이퍼의 표면을 건조시키는 장치로서 웨이퍼는 챔버내의 회전축에 고정되며 회전시 원심력에 의해 웨이퍼 표면으로부터 수분이 분리되어 건조되는 장비임.
ㅇ건조 공정전에 웨이퍼상에 남아있는 화학물질등 잔존물질을 초순수를 사용 린스해주는 기능도 있음. |
| 결정사유 |
ㅇ본건 물품은 린스 및 드라이어 기능을 함께 할 수 있도록 제작된 다기능 기기로서 HS 16부 주3의 규정에 의거 주요한 기능을 수행하는 물품이 게기된 호에 분류하여야 하나, 제출된 제조사의 물품설명 자료등에 따르면 본건 물품의 주요한 기능은 건조기임.
ㅇ또한, 본건 물품은 원심력을 이용하여 반도체 웨이퍼의 표면을 건조시키는 장치로서 웨이퍼는 챔버내의 회전축에 고정되며 회전시 원심력에 의해 웨이퍼 표면으로부터 수분이 분리되어 건조되는 장비로서 건조를 위한 핵심기술은 HS 8419호에 분류되는 온도변화에 의한 것이 아닌 HS 8421호에 분류되는 원심분리 방식을 이용한 Spin Drier이므로 HSK 8421.19-4000호에 분류함.(다만, 마스크나 디스크등 반도체 웨이퍼 제조용으로 사용되지 않는 경우에는 HSK 8421.19-9000호에 분류함) |
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