| 참조번호 | 평가분류47281-196 |
|---|---|
| 시행일자 | 2001-03-02 |
| 시행기관 | 관세청 |
| 결정세번 | 9017.20-4000 |
| 품명 | Pattern Generating apparatus of a kind used for producing masks or reticles from photoresist coated substrates ; ALTA 3700 MASK & RETICLE WRITING SYSTEM |
| 물품설명 |
ㅇ 물품명 : ALTA 3700 MASK & RETICLE WRITING SYSTEM
ㅇ Laser빔을 이용하여 설계되어진 반도체 회로를 Blank Mask(감광제가 코팅된 Glass)위에 Optic System을 이용하여 레이져빔을 반사시켜 필요한 패턴을 형성하는 장비 ㅇ 주요구성요소 및 기능 (1) Print Head : 블랭마스크위에 패턴을 형성부분으로 Laser Head와 반사경과 Optic으로 구성 (2) Electronics Rack : 패턴형성을 할 수 있도록 형성할 패턴정보를 변환, 프린터헤드부의 구성요소들을 Control (3) System executive computer (4) Utilities distribution center : 시스템에Cooling Wafer, Vacumm, Pressure와 일정한 Air를 공급 (5) UV Laser cooling unit : Laser의 발열을 식히기 위해 사용 |
| 결정사유 |
ㅇ 제9010호해설서(M)『감광성 반도체 재료에 회로모형을 투영 또는 드로잉하는 기기는 전기식 집적회로 제조에 사용되는 것이다 이는 반도체 웨이퍼위에 도포한 감광성막(Layer)에 회로모형을 나타내는(Exposure) 기기이다』로 웨이퍼위에서 회로모형을 노광시키는 기기로 해설
ㅇ 같은 해설서(M)(1)에 마스크나 레티클을 사용하는 기기로 회로 모형이 드로잉되어 있는 위에 마스크나 레티클을 사용한다고 해설하고 있어 웨이퍼에 회로모형을 나타내는 기기로 마스크나 레티클을 사용한다고 해설하고 있고, 마스크나 레티클은 반도체 소자의 한층의 복제품을 말한다. 라고 하여 블랭크마스크(원판)을 복제한 마스크를 사용하는 것으로 해설 ㅇ 반도체 공정중 패턴형성 공정은 CAD시스템에서 설계된 반도체 회로도면을 석영유리기판위에 그리는 공정으로 이때 사용되는 패턴형성전의 석영유리판을 블랭크마스크라 하며 블랭크 마스크를 이용하여 회로모형이 그려진(패턴 형성된) 마스크를 만드는 공정이 패턴형성 공정으로 ㅇ 노광공정은 패턴이 형성된 포토마스크를 웨이퍼위에 얹은 다음 빛을 통하여 마스크위의 회로 패턴이 형성된 마스크의 패턴을 산화, 감광, 정렬(Alignment) 과정을 거친 후 빛을 쪼여 마스크의 패턴을 웨이퍼의 표면위에 전달하는 공정으로 제9010호해설서(I)에는 마스크나 레티클을 이용하는 기기에 대하여 마스크나 레티클을 정렬한 후 반도체 웨이퍼 위에 빛이나 도포한 X선에 노출시킨다고 해설 ㅇ 반도체 공정기기중 패턴형성기와 노광기는 본호 해설서 및 반도체 공정상 차별화되는 기계로 제9017호『다른 호에 분류되지 아니한 제도(Drawing)용구·설계용구』가 게기 - 본 물품은 감광성반도체 재료에 Photo-Resist가 도포된 블랭크 마스크 위에 레이져 빔으로 반도체 회로를 형성하는 시스템 장비로 타호에 분류될 수 없는 기능을 가지고 있어 기타의 다른 호에 분류되지 아니한 제도용구·설계용구에 해당되는 기기이며 - HSK9017.20-4000호에 패턴형성기(사진감광액이 도포된 감광판으로 부터 마스크와 레티클을 제조하기 위해 사용되는 것에 한한다)가 특게되어 있는 물품으로 본호에 분류되는 것이 타당함 |
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